Gyakori problémák és megoldások a pu szivacsokkal kapcsolatban

1. Magas zárt poroságú.

(1) Polieter poliolok: magas arányú etilén-oxid, magas aktivitás, gyakran fordul elő a különböző aktivitású polieter poliolok cseréjében.

(2) folyamat képlet: nagy mennyiségű octanoát-stannnival, magas izocianát-aktivitás, magas keresztlinkelési fok, gyors keresztlinkelési sebesség, túl sok ámin és fizikai buborékosító ügynök.

Ezért a buborék belső nyomása alacsony, a buborék nem nyílik meg, amikor a buborék rugalmassága nagy, és a zárati arány magas, ha a TDI index túl nagy.

2. Összehúzódás (a gélfázis sebessége magasabb, mint a buborékfázis sebessége).

(1) Magas zárati arány és hűtés közbeni összehúzódás.

(2) technológiai feltételek: alacsony levegőhőmérséklet és anyag-hőmérséklet.

(3) folyamat képlet: túl sok szilikónolaj, túl sok fizikai buborékosító ügynök, alacsony TDI index.

3. Belső törés.

(1) technológiai feltételek: alacsony levegőhőmérséklet és magas reakciós központi hőmérséklet.

(2) folyamat képlet: alacsony TDI index, magas tin tartalom és magas korai buborékozó erő.

(3) szilányszén kitart az aktív tevékenységben és alacsony dozisban.

4. Falbeli rég (egyensúlytalan aerogel sebesség).

(1) technológiai feltételek: alacsony levegőhőmérséklet és anyag hőmérséklet.

(2) folyamat képlet: elégtelen katalizátor mennyiség, alacsony amín mennyiség, szivacs minősége rossz.

5. Alsó sarki törés (túl sok amín, a buborékozás sebessége túl gyors).

Felszíni makroporák: túlzott fizikai buborékozás, szivacs és katalizátor minősége rossz.

6. Rossz teljesítmény a gyomolcs alacsony hőmérsékleténél.

A poliéter-poliol intrinzikus minősége rossz, ugyanazon hidroxilértéken alacsony TDI index, alacsony funkció, magas nem saturált, ugyanazon tin-tartalommal.

7. Rossz ventiláció.

(1) Környezeti feltételek: alacsony hőmérséklet.

(2) Fenyképező anyagok: magas polieter poliol, magas szilikonol aktivitás.

(3) folyamat képlet: több tin, vagy ugyanannyi tin, kevesebb víz és amin, magas TDI index.

8. Rossz ellenállás az elasticitás ellen.

(1) Fényérzékeny anyagok: A polieter poliol magas aktivitással rendelkezik, alacsony molekulatömegű és magas szilikonol aktivitás.

(2) folyamat képlet: nagy mennyiségű szilikonol, több tin, több víz és magas TDI index ugyanannyi tin mennyiség esetén.